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接触窗的形成方法技术
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文档序号:9598001
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本发明公开一种接触窗的形成方法,其包括以下步骤:提供基底;形成图案化的非结晶碳层或旋涂式涂布材料层,其中非结晶碳层或旋涂式涂布材料层的两侧露出基底的表面;在基底上形成层间介电层;移除层间介电层的一部分以露出经图案化的非结晶碳层或旋涂式涂布材...
该专利属于力晶科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过力晶科技股份有限公司授权不得商用。
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