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本发明公开了一种晶片吸盘的真空发生装置，包含：通过管道相连的真空发生器和压缩空气管道，该真空发生器给晶片吸盘提供真空，还包含：气体阀，所述的气体阀设置在真空发生器与压缩空气管道之间；所述的气体阀的控制端通过管道与外部的晶片吸盘的工作阀的供气...
该专利属于上海宏力半导体制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海宏力半导体制造有限公司授权不得商用。

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