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本发明提供一种半导体元件的制造方法。该方法提供具有第一区及第二区的基底。在基底上形成第一图案化罩幕层，其在第一区中具有至少一第一开口而在第二区中具有至少一第二开口。第一开口小于第二开口。以第一图案化罩幕层为罩幕，移除部分基底，以在第一区的基...
该专利属于南亚科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过南亚科技股份有限公司授权不得商用。

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