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肖特基势垒二极管制造技术
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文档序号:9435467
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本发明涉及肖特基势垒二极管。所述肖特基势垒二极管包括:GaN层(3)和肖特基电极(4),所述肖特基电极(4)形成在所述GaN层(3)上,其中,使与所述肖特基电极(4)相接触的所述GaN层(3)的区域(3c)的位错密度为1×108cm-2或更...
该专利属于住友电气工业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过住友电气工业株式会社授权不得商用。
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