专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
中国科学院微电子研究所
>
半导体器件及其制造方法技术
>技术资料下载
下载半导体器件及其制造方法的技术资料
文档序号:9407494
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明提供一种半导体器件,包括:衬底;浅沟槽隔离,嵌于所述衬底中,且形成至少一个开口区;沟道区,位于所述开口区内;栅堆叠,包括栅介质层和栅电极层,位于所述沟道区上方;源漏区,位于所述沟道区的两侧,包括为所述沟道区提供应变的应力层;其中,所述...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。