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本发明提供包括旋转轮的原子层沉积设备及方法，所述旋转轮具有多个基板载体，所述原子层沉积设备及方法用于连续处理基板。处理腔室在前端上可具有载入站，所述载入站被配置成具有一个或更多个机械手臂以从基板载体载入及卸载基板，无需停止旋转轮。...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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