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本发明的提高离子注入机使用周期的锗注入方法，包括：将晶圆放入离子注入腔室，对腔室抽真空；向离子注入腔室内通入GeF4和SiH4气体；GeF4和SiH4气体发生分解，分解的Si+、游离的F和游离的H被排出腔室；腔室内分解的Ge+注入到晶圆内；...
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