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本发明公开了一种双深度浅沟道隔离槽的刻蚀工艺，包括：提供衬底，对所述衬底进行光刻涂胶和显影；对所述衬底刻蚀形成第一道浅沟槽并清洗；对其中一个第一道浅沟槽进行光刻胶填充和显影；对另一个第一道浅沟槽的底部圆角进行刻蚀；进一步刻蚀上述第一道浅沟槽...
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