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本发明的实施例提供用于物理气相沉积(physical?vapor?deposition；PVD)中的溅射靶及形成此种溅射靶的方法。在一个实施例中，溅射靶包含配置在背板上的靶层，及覆盖和保护所述背板的区域的保护涂层，所述保护涂层通常包含镍材料...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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