下载接触孔之底金属层去除量的量测方法的技术资料

文档序号:9224150

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

一种接触孔之底金属层去除量的量测方法,包括:步骤S1:对接触孔进行刻蚀;步骤S2:利用光学线宽测量仪,量测接触孔的总深度H;步骤S3:利用前层膜厚量测仪,量测位于底金属层上的膜层总厚度h;步骤S4:获得所述接触孔之底金属层的去除量Δh=H-...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。