下载快恢复二极管及制作该二极管的方法的技术资料

文档序号:9172315

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

一种快恢复二极管,包括一N型高掺杂硅衬底、一第一N型掺杂半导体层、一第二N型掺杂半导体层、一二极管阳极层,所述第一N型掺杂半导体层位于第二N型掺杂半导体层和N型高掺杂硅衬底之间,所述第一N型掺杂半导体层的掺杂浓度低于第二N型掺杂半导体层的掺...
该专利属于深圳市立德电控科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过深圳市立德电控科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。