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本发明公开了一种鳍式场效应晶体管，包括SOI衬底、SOI衬底上的鳍形的栅极堆叠结构、SOI衬底中栅极堆叠结构两侧的源漏区以及源漏区之间的沟道区，源漏区与沟道区沿第一方向延伸，栅极堆叠结构沿垂直于第一方向的第二方向延伸，其特征在于：源漏区为金...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

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