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本发明公开了一种磁流体薄膜的制作方法。该方法主要包括薄膜载玻片上磁流体填充槽的制作以及磁流体填充两部分。在磁流体填充槽制作时，利用氢氟酸、浓硫酸以及水的混合溶液来对载玻片进行腐蚀，根据腐蚀时间的不同得到不同深度的填充槽。然后在不同深度的填充...
该专利属于东北大学所有，仅供学习研究参考，未经过东北大学授权不得商用。

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