当前位置: 首页 > 专利查询>东北大学专利>正文

一种磁流体薄膜的制作方法技术

技术编号:9144270 阅读:571 留言:0更新日期:2013-09-12 05:39
本发明专利技术公开了一种磁流体薄膜的制作方法。该方法主要包括薄膜载玻片上磁流体填充槽的制作以及磁流体填充两部分。在磁流体填充槽制作时,利用氢氟酸、浓硫酸以及水的混合溶液来对载玻片进行腐蚀,根据腐蚀时间的不同得到不同深度的填充槽。然后在不同深度的填充槽内填充磁流体,并盖上盖玻片,最后用紫外光胶封装,最终得到可用于实验研究的厚度均匀且可以长时间保存的磁流体薄膜。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种磁流体薄膜的制作方法。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:赵勇吕日清李浩
申请(专利权)人:东北大学
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1