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一种磷酸硅玻璃薄膜的等离子体化学气相沉积方法技术
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下载一种磷酸硅玻璃薄膜的等离子体化学气相沉积方法的技术资料
文档序号:9079284
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本发明提供了一种磷酸硅玻璃薄膜的等离子体化学气相沉积方法,其特征在于:所述方法包括以下步骤:执行磷酸硅玻璃薄膜沉积的预步骤;磷酸硅玻璃薄膜沉积;其中,磷酸硅玻璃薄膜沉积的预步骤中通入一反应气体,反应气体为磷化氢气体,所述磷化氢气体的流量为5...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。
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