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本发明公开了一种形成自我对准的套准标记的方法，首先提供位在基材上的一第一区域、一第二区域、以及位于第一区域和第二区域之间的主要特征。第一区域界定出一第一边界而第二区域界定出一第二边界。其次，形成一截切掩膜层分别覆盖第一区域与第二区域并同时又...
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