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本发明公开了一种半导体设备工艺控制方法和半导体设备工艺控制装置。该方法包括：识别传输至当前腔室中的加工件；从预先设置的与加工件对应的加工件操作参数中读取当前腔室对应的操作参数，加工件操作参数包括加工件在每个腔室对应的操作参数；根据当前腔室对...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。