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本发明在一个实施方案中提供了一种用于化学机械抛光的抛光垫（１００）。该抛光垫包括抛光体（１１０）。该抛光体包括热塑性泡沫基材（１１５），该基材具有包含凹形孔（１２５）的表面（１２０）。抛光剂（１３０）涂覆该凹形孔的内表面（１３５）。该抛光剂...
该专利属于皮斯洛奎斯特公司所有，仅供学习研究参考，未经过皮斯洛奎斯特公司授权不得商用。

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