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本发明公开了一种光蚀刻显影液的制备方法，本发明通过混合一定比例的三甲胺，三乙胺，和碳酸二甲酯，合成四甲基铵和三乙基单甲基铵碳酸单甲酯混合物中间体。然后经过水解，纯化，电解工序得到四甲基氢氧化铵和三乙基单甲基氢氧化铵混合铵显影液溶液。同时也可...
该专利属于合肥格林达电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥格林达电子材料有限公司授权不得商用。

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