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文档序号:8881056
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本发明提供一种成膜方法。该成膜方法包括以下步骤:将基板载置于以能够旋转的方式设置于真空容器内的旋转台的基板载置部;成膜步骤,通过使上述旋转台旋转而使载置于该旋转台的上述基板交替地暴露于含钛气体和与该含钛气体反应的含氮气体,从而在上述基板上形...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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