下载一种用于MOCVD反应室的电磁加热装置的技术资料

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本实用新型的一种用于MOCVD反应室的电磁加热装置,包括石墨基座和线圈,所述石墨基座为圆柱形且线圈设置在石墨基座的下方,所述石墨基座上表面设置有向下凹陷的圆环形凹槽。本实用新型的有益效果是:圆环形凹槽改变了传统石墨基座单一的加热方式,根据电...
该专利属于济南大学所有,仅供学习研究参考,未经过济南大学授权不得商用。

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