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本发明公开一种基于量子点的复合紫外增强薄膜及制备方法。所述基于量子点的复合紫外增强薄膜自下而上依次为底层石英基片、聚3,4-亚乙二氧基噻吩/聚苯乙烯磺酸薄膜层、聚4-丁基三苯胺薄膜层和量子点薄膜层，所述聚3,4-亚乙二氧基噻吩/聚苯乙烯磺酸...
该专利属于上海理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海理工大学授权不得商用。

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