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一种射频传输结构的形成方法,包括:提供包括器件区和非器件区的半导体衬底,覆盖所述半导体衬底表面的隐埋氧化物层,覆盖所述隐埋氧化物层表面的半导体层;形成贯穿所述非器件区的半导体层和隐埋氧化物层的开口,所述开口暴露出半导体衬底表面;形成开口后,...该专利属于上海宏力半导体制造有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海宏力半导体制造有限公司授权不得商用。
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一种射频传输结构的形成方法,包括:提供包括器件区和非器件区的半导体衬底,覆盖所述半导体衬底表面的隐埋氧化物层,覆盖所述隐埋氧化物层表面的半导体层;形成贯穿所述非器件区的半导体层和隐埋氧化物层的开口,所述开口暴露出半导体衬底表面;形成开口后,...