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本发明提供一种能够能够充分利用镀膜材料进行镀膜的真空镀膜装置。本发明的一种真空镀膜装置，用于将镀膜材料镀到基片上，含有：真空室、转动轴、镀膜材料置放部支撑座以及对基片进行夹持的复数个夹具，其特征在于，还具有：两个镀膜锅，一个作为基板，另一个...
该专利属于上海理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海理工大学授权不得商用。

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