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本发明涉及光学薄膜。低紫外光学损耗的光学薄膜的制备方法，首先将基片在石油醚和温水的混合溶液中进行超声波清洗，再用石油醚经过仔细擦洗；然后将基片放入真空室内，采用电子束热蒸发方法进行镀膜，沉积温度为300℃-350℃，工作真空度为3.5×10...
该专利属于上海理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海理工大学授权不得商用。

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