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本发明公开了一种发光二极管结构及其制造方法。在一实例中,发光二极管结构包括具有大于或者等于约250μm厚度的晶体衬底,其中所述晶体衬底具有第一粗糙表面和第二粗糙表面,所述第二粗糙表面与所述第一粗糙表面相对置;设置在所述第一粗糙表面上的多个外...该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种发光二极管结构及其制造方法。在一实例中,发光二极管结构包括具有大于或者等于约250μm厚度的晶体衬底,其中所述晶体衬底具有第一粗糙表面和第二粗糙表面,所述第二粗糙表面与所述第一粗糙表面相对置;设置在所述第一粗糙表面上的多个外...