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本发明提供一种制造IC屏蔽镀膜的设备及IC的金属屏蔽膜层。此设备包括一基座、一工件架、若干个中频磁控靶及若干个多弧离子靶。基座包括一腔体。工件架设于腔体中且与若干个转轴活动性地连接，各转轴系包括至少一治具，治具放置至少一IC。各中频磁控靶及...
该专利属于晟铭电子科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过晟铭电子科技股份有限公司授权不得商用。

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