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本发明涉及一种陷光结构氮化硅薄膜的制备方法及制备装置，属于陷光结构氮化硅薄膜技术领域。一种陷光结构氮化硅薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：清洗石英玻璃（1）；将石英玻璃与氮化硅靶材（3）上、下对应地固定在镀膜设备内，所述镀膜设备具有...
该专利属于上海工程技术大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海工程技术大学授权不得商用。

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