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在等离子体工艺期间施加的时间依赖的衬底温度被确定。在任意给定时间的所述时间依赖的衬底温度基于对在该给定时间等离子体成分的粘附系数的控制而确定。在所述等离子体工艺期间施加的上等离子体边界和衬底之间的时间依赖的温差也被确定。在任意给定时间的所述...
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