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晶片承接设备和常压化学气相沉积装置制造方法及图纸
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文档序号:8684033
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本发明涉及一种用于常压化学气相沉积装置的晶片承接设备和常压化学气相沉积装置用。该晶片承接设备包括:承接平台,所述承接平台用于承接从所述常压化学气相沉积装置的晶片出口掉落的晶片;驱动器,所述驱动器驱动所述承接平台在水平面内移动;控制器,所述控...
该专利属于无锡华润上华科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过无锡华润上华科技有限公司授权不得商用。
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