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一种激光干涉光刻系统，用于大面积光栅制造的激光干涉光刻系统。该系统包括激光器、反射镜、分束器和基底台等。激光器出射的激光经反射镜、分束器后分为两束干涉光束，干涉光束经反射镜在基底台承载的基底上实现合光干涉，干涉图形通过曝光基底实现图形记录转...
该专利属于清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学授权不得商用。

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