专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
上海理工大学
>
一种基于自准直效应的二维光子晶体光强调制器制造技术
>技术资料下载
下载一种基于自准直效应的二维光子晶体光强调制器的技术资料
文档序号:8669062
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本实用新型提供了一种基于自准直效应的二维光子晶体光强调制器,属于光通信应用技术领域,尤其适用于光通信中的集成光学领域。所述光强调制器包括孔型硅基光子晶体、5CB液晶、透明导电膜层、外接电压接线点和两个包层玻璃。其中,孔型硅基光子晶体的部分孔...
该专利属于上海理工大学所有,仅供学习研究参考,未经过上海理工大学授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。