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一种处理铝焊垫上的氮化钛残留物的工艺方法技术
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文档序号:8656652
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本发明一种处理铝焊垫上的氮化钛残留物的工艺方法,其中,包括以下工艺步骤:步骤一,对未被光阻层所覆盖的阻挡层以及阻挡层下方的衬底与顶部金属阻挡层进行刻蚀,直至刻蚀至金属层;步骤二,将光阻层完全移除;步骤三,进行氮化硅的沉积,氮化硅覆盖于阻挡层...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。
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