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基于置换反应-热氧化方法制备复合半导体敏感膜的方法技术
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下载基于置换反应-热氧化方法制备复合半导体敏感膜的方法的技术资料
文档序号:8653404
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本发明公开了一种基于置换反应-热氧化方法制备复合半导体敏感膜的方法,该方法包括:在耐高温衬底上生长一层Zn;将生长有Zn的衬底浸入Cu的可溶性盐离子溶液中,溶液中的Cu离子被置换出来进而在Zn表面析出Cu纳米颗粒;对表面附着有Cu纳米颗粒的...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。
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