温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明公开了一种去除硅材料表面杂质的方法，属于新能源材料制备技术领域。本方法利用强流脉冲电子束辐照处理硅材料，通过瞬时高能量注入引发表面蒸发和表层喷发过程，发挥表面蒸发去除杂质和熔体喷发去除深层杂质的双重效果，获得具有一定厚度且符合太阳能电...
该专利属于大连理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过大连理工大学授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。