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本发明属于PECVD设备的冷却技术领域，具体地说是一种冷却进气布局结构。包括真空腔体、法兰、进气法兰槽及进气管，其中真空腔体的底部设有法兰，所述进气管的一端穿过法兰和真空腔体的底部插入真空腔体内，进气管的另一端通过与法兰连接的进气法兰槽固定...
该专利属于中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司授权不得商用。

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