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高电子迁移率晶体管制造技术
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文档序号:8564061
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本发明提供了高电子迁移率晶体管(HEMT),包括:基板;HEMT叠层,与基板间隔开;以及虚设绝缘层(PIL),设置在基板与HEMT叠层之间。PIL层包括具有不同相的至少两种材料。PIL层定义空的空间,该空的空间在中间部分比在该空的空间的入口...
该专利属于三星电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社授权不得商用。
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