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本发明提供一种用于在硅衬底上形成钽沉积膜的反应腔，包括反应腔本体，所述反应腔本体的腔室内侧壁上设有一空腔，所述空腔内设有固定支架，所述固定支架具有伸缩部件，固定支架在所述伸缩部件带动下伸出空腔，所述固定支架可伸出空腔一端设有钽环。本发明提供...
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