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本发明涉及RRC过程和EBR过程用的稀释剂组合物、及供应前者的设备。所述RRC(减胶涂覆)过程用的稀释剂组合物包括乳酸烷基酯、环己酮和乙酸烷基酯，其中所述乙酸烷基酯的烷基取代基为C1‑C5非基于醚的烷基。...
该专利属于三星电子株式会社;株式会社东进世美肯所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社;株式会社东进世美肯授权不得商用。

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