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图案形成方法和聚合物合金基材技术
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文档序号:8494100
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本发明提供一种图案形成方法,其能短时间内形成高取向的图案以及在聚合物合金上的相分离结构;还提供聚合物合金基材。提供图案形成方法,该方法包括:将自组装单层和聚合物膜层压在基质上;用能量射线照射所得层压材料以将聚合物膜与自组装单层化学键合,从而...
该专利属于株式会社东芝所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社东芝授权不得商用。
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