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靶材背管的磁铁配置、包括所述磁铁配置的靶材背管、圆柱状靶材组件及溅射系统技术方案
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下载靶材背管的磁铁配置、包括所述磁铁配置的靶材背管、圆柱状靶材组件及溅射系统的技术资料
文档序号:8494097
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本文关于用于溅射系统的磁铁配置(800,900,1000),其中磁铁配置适于溅射系统的可旋转靶材(126a,126b)并包含:第一磁铁元件(810,910,1010),所述第一磁铁元件沿第一轴(X)延伸;第二磁铁元件(820,920,102...
该专利属于应用材料公司所有,仅供学习研究参考,未经过应用材料公司授权不得商用。
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