专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
株式会社东芝
>
半导体装置及其制造方法制造方法及图纸
>技术资料下载
下载半导体装置及其制造方法的技术资料
文档序号:8490872
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明涉及半导体装置及其制造方法。实施方式的半导体装置具备:第一导电型的半导体层;第二导电型的第一半导体区域,设置在所述半导体层之上;以及第一导电型的第二半导体区域,选择性地设置在所述第一半导体区域的表面。并且,在所述半导体层设置的沟槽的内...
该专利属于株式会社东芝所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社东芝授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。