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半导体器件及其制造方法技术
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文档序号:8490855
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本发明提供了一种半导体器件及其制造方法。一种提供紧凑性以及增大的漏极耐压的半导体器件。该半导体器件包括:栅电极;源电极,其与栅电极隔开;漏电极,在平面图中,其相对于栅电极与源电极相对地定位,并且与栅电极隔开;至少一个场板电极,在平面图中,其...
该专利属于瑞萨电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过瑞萨电子株式会社授权不得商用。
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