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形成刻蚀掩膜的方法技术
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文档序号:8490687
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本发明公开了一种形成刻蚀掩膜的方法,其包含:提供一基材,其上具有一待刻蚀的材料层;于所述材料层上形成一硬掩膜层,所述硬掩膜层包含有一对辐射敏感的单层阻材;将所述硬掩膜层暴照在一光化能下,以改变所述硬掩膜层受暴区域的溶剂可溶性;以及对所述硬掩...
该专利属于南亚科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过南亚科技股份有限公司授权不得商用。
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