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公开了用于调节腔室的系统和方法。实施例包括应用沉积腔室沉积第一层,以及调节沉积腔室。可以通过在第一层上方沉积不同种类的材料实施调节沉积腔室的步骤。不同种类的材料可以覆盖并密封第一层,从而阻止第一层的颗粒脱落以及在后续的加工运行期间可能落在衬...该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。
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公开了用于调节腔室的系统和方法。实施例包括应用沉积腔室沉积第一层,以及调节沉积腔室。可以通过在第一层上方沉积不同种类的材料实施调节沉积腔室的步骤。不同种类的材料可以覆盖并密封第一层,从而阻止第一层的颗粒脱落以及在后续的加工运行期间可能落在衬...