下载腔室装置和具有该腔室装置的基片处理设备的技术资料

文档序号:8485291

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本发明公开了一种腔室装置,包括:限定有腔室的腔室本体;气体分布板,所述气体分布板设在腔室内以将腔室分割为上腔室和下腔室,上腔室具有进气口且下腔室具有出气口,气体分布板上设有将上腔室和下腔室连通的多个分配孔;和分布板衬板,所述分布板衬板设在腔...
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