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本发明涉及一种深紫外光学薄膜基底的处理方法，包括以下步骤：在第一超声波水槽中加入洗涤剂，将基底在该第一超声波水槽中进行清洗；将基底按照频率由低到高，依次放入频率不同的多个超声波水槽内进行清洗；在慢拉脱水水槽中对基底进行慢拉脱水；对基底进行高...
该专利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院长春光学精密机械与物理研究所授权不得商用。

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