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本发明提供了一种混合线条的制造方法，包括以下步骤：A、在底层上依次形成材料层、第一硬掩模层和第二硬掩模层；B、对第二硬掩模层光刻/刻蚀形成第二硬掩模图形；C、在第一硬掩模层上形成光刻胶掩模图形；D、以第二硬掩模图形和光刻胶掩模图形为掩模，刻...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。

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