温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供了具有稳定特性和高质量的半导体器件以及用于生产该半导体器件的工艺。该半导体器件包括具有主表面的衬底（1）和碳化硅层（2至5）。该碳化硅层形成在衬底（1）的主表面上。碳化硅层中的每一个具有作为相对于主表面倾斜的端表面的侧表面。在碳化...
该专利属于住友电气工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过住友电气工业株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。