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本发明提供半导体装置的制造方法及半导体装置的制造系统。将检查用基板的监测图案的目标空间比例确定为不同于1∶1的比例。将光谱库的空间比例的范围确定为包含目标空间比例而不包含1∶1的空间比例的范围。对检查用基板进行规定的处理，在被处理膜上形成监...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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